一、水磨石地面
具體做法：基層處理：清理混凝土基層，去除松散物、油污，修補裂縫及凹凸處，確?；鶎訌姸?/span>≥C20，含水率≤8%。若需防潮，需涂刷環(huán)氧底漆或瀝青涂層。找平層施工：采用 1:3 水泥砂漿找平，厚度 20-30mm，養(yǎng)護 7 天以上，確保表面平整（平整度誤差≤3mm/2m）。骨料配制：將水泥（通常為硅酸鹽水泥）與石英砂、大理石粒（粒徑 3-15mm）按 1:1.5-2 比例混合，可摻入顏料調配顏色，需確保骨料潔凈無雜質。攤鋪與養(yǎng)護：將混合料攤鋪至設計厚度（通常 20-30mm），振搗密實后養(yǎng)護 7-10 天，避免早期開裂。磨光拋光：采用機械磨石機分 3-4 次打磨，依次使用 60#、120#、240#、300# 磨片，最后拋光至表面粗糙度≤0.2μm，必要時打蠟封閉孔隙。
特點：優(yōu)點：整體性強：無縫施工，減少塵埃積聚，符合潔凈室防塵要求。耐磨耐久：抗壓強度≥60MPa，適用于高荷載區(qū)域（如設備密集區(qū)）。易清潔：表面光滑，可耐弱酸弱堿，便于日常擦拭和消毒。防靜電：可通過摻入導電纖維或金屬網(wǎng)實現(xiàn)防靜電功能（表面電阻 10?-101?Ω）。缺點：孔隙問題：顯微鏡下存在微小孔隙，可能滋生微生物，需定期打蠟密封（建議每季度一次）。施工周期長：養(yǎng)護和打磨耗時較長，需專業(yè)設備。適用性：潔凈等級：適用于 ISO 7 級（萬級）及以下潔凈區(qū)，如輔助生產(chǎn)區(qū)、一般設備間。場景：非高精密生產(chǎn)區(qū)域（如物料存儲區(qū)、人員走廊），不適用于嚴格控制分子污染或高濕度環(huán)境（如濕法清洗區(qū)）。
二、涂布型地面
1、聚氨酯地面
具體做法：基層處理：打磨混凝土基層至堅實、平整，清除油污，修補裂縫，含水率≤7%。底涂施工：涂刷聚氨酯底漆（雙組分，甲組分∶乙組分 = 1:2），用量 0.2-0.3kg/㎡，增強附著力。砂漿層施工：將聚氨酯樹脂與石英砂混合（1:3），刮涂中涂層 2-3mm，找平并增強耐磨性。面漆施工：滾涂或噴涂聚氨酯面漆（厚度 0.5-1mm），可選擇啞光或亮光表面，提高抗污性。養(yǎng)護：常溫固化 48 小時，養(yǎng)護期間禁止人員進入。
特點：優(yōu)點：彈性緩沖：硬度邵氏 A 70-85，可減少設備振動傳遞，保護精密儀器。耐化學性：耐汽油、礦物油及中等濃度酸堿（如 5% 鹽酸、10% 氫氧化鈉）。防滑耐磨：表面可做橘皮紋處理，摩擦系數(shù)≥0.6，適用于濕滑區(qū)域。缺點：耐高溫性一般：長期使用溫度≤120℃，不適用于高溫設備周邊。成本較高：原材料價格高于普通環(huán)氧地面。適用性：潔凈等級：ISO 5-8 級（百級至十萬級），如半導體封裝車間、精密裝配區(qū)。場景：需抗沖擊、耐油污的區(qū)域（如設備維修區(qū)、物流通道），不適用于強溶劑接觸環(huán)境（如光刻膠存放區(qū)）。
2、環(huán)氧樹脂地面
具體做法：基層處理：打磨拉毛基層，修補裂縫，用吸塵器清理粉塵，含水率≤6%。底涂：涂刷環(huán)氧底漆（環(huán)氧樹脂∶固化劑 = 2:1），滲透基層并封閉孔隙，用量 0.15-0.2kg/㎡。中涂：刮涂環(huán)氧砂漿層（環(huán)氧樹脂 + 石英砂），厚度 1-3mm，找平并增強抗壓強度。膩子層：用環(huán)氧膩子修補細微缺陷，確保表面平整（誤差≤2mm/2m）。面漆：滾涂或鏝涂環(huán)氧面漆（厚度 0.5-1mm），可選擇自流平型（平整度≤1mm/2m）或防滑型。防靜電處理：若需防靜電，中涂或面漆中摻入碳黑或金屬氧化物導電填料，表面電阻 10?-101?Ω。
特點：優(yōu)點：高潔凈性：無縫表面，易清潔，符合 ISO 5 級（百級）潔凈要求，常用于微電子光刻區(qū)。耐腐蝕性：耐強酸堿（如 30% 硫酸、40% 氫氧化鈉），適用于濕法化學處理區(qū)。施工靈活：可根據(jù)需求調整厚度（0.5-5mm），滿足不同荷載要求。缺點：脆性較大：硬度邵氏 D 75-85，受沖擊易開裂，需避免尖銳物體劃傷。耐候性差：長期紫外線照射易變黃，需加抗紫外線面漆。適用性：潔凈等級：ISO 3-8 級（一級至十萬級），廣泛應用于半導體晶圓制造、封裝潔凈區(qū)。場景：高潔凈度且需耐化學腐蝕的區(qū)域（如清洗間、顯影室），不適用于頻繁機械沖擊區(qū)域。
3、交聯(lián)丙烯酸地面
具體做法：基層處理：同環(huán)氧樹脂地面，確?；鶎痈稍铩詫?。底涂：涂刷丙烯酸底漆，增強附著力，干燥時間 2-4 小時。中涂：刮涂丙烯酸砂漿層（丙烯酸樹脂 + 石英砂），厚度 1-2mm，找平基層。面漆：滾涂交聯(lián)丙烯酸面漆（含光引發(fā)劑，紫外線固化），形成致密涂層，厚度 0.3-0.5mm。
特點：優(yōu)點：快干環(huán)保：紫外線固化時間≤30 分鐘，無溶劑揮發(fā)（VOC≤50g/L），適合快速施工。耐候性好：抗紫外線老化，長期使用不黃變，適用于有采光窗的潔凈室。表面硬度高：鉛筆硬度≥2H，抗劃傷能力優(yōu)于普通環(huán)氧地面。缺點：耐溶劑性一般：不耐強溶劑（如丙酮、甲苯），需避免長期接觸。造價中等：原材料成本高于環(huán)氧，低于聚氨酯。適用性：潔凈等級：ISO 6-8 級（千級至十萬級），如電子組裝車間、檢測區(qū)。場景：對施工周期要求高、需美觀且耐候的區(qū)域，不適用于強化學腐蝕環(huán)境。
4、乙烯基樹脂地面
具體做法：基層處理：嚴格干燥（含水率≤5%），修補缺陷后涂刷乙烯基酯底漆。砂漿層：乙烯基樹脂與石英砂混合（1:2），刮涂 2-3mm 厚度，耐溫性能可達 150℃。面漆：鏝涂乙烯基樹脂面漆，添加耐腐蝕填料（如石墨、玻璃鱗片），厚度 1-2mm。
優(yōu)點：耐高溫耐腐蝕：耐 150℃高溫及強酸堿（如 98% 硫酸、王水），適用于半導體腐蝕工藝區(qū)?？?jié)B透性強：分子結構致密，可抵抗溶劑滲透，防止化學污染擴散。缺點：施工復雜：需高溫固化（60-80℃養(yǎng)護 24 小時），對環(huán)境溫度要求高。成本高：原材料昂貴，單價為普通環(huán)氧的 2-3 倍。適用性：潔凈等級：ISO 5-7 級（百級至萬級），專門用于強腐蝕環(huán)境（如濕法刻蝕間、酸堿儲存區(qū)）。
三、貼面型地面（PVC 地面）
具體做法：基層處理：找平基層（平整度≤2mm/2m），涂刷界面劑增強黏結力。彈線排版：按 PVC 板材尺寸（通常 600×600mm）彈線，確保對稱美觀。粘貼施工：使用環(huán)保型水性膠或溶劑型膠，均勻涂于基層及板材背面，粘貼后用壓輥壓實，避免氣泡。焊縫處理：對板材接縫進行焊接（焊條材質與板材一致），焊縫高度≥板材厚度 80%，確保無縫密封。防靜電處理：選用導電型 PVC（表面電阻 10?-10?Ω），需鋪設銅箔接地網(wǎng)格（間距≤6m）。
特點：優(yōu)點：彈性舒適：邵氏 A 硬度 60-70，腳感舒適，減少人員疲勞，適合長時間站立操作區(qū)。施工便捷：模塊化安裝，可快速更換破損板塊，便于設備檢修。耐低溫：可在 - 20℃環(huán)境使用，適用于冷凍倉儲區(qū)。缺點：易劃傷：表面耐磨層厚度≤0.3mm，尖銳物體易造成劃痕。接縫隱患：粘貼不牢或焊縫開裂易積塵，需定期檢查維護。適用性：潔凈等級：ISO 7-9 級（萬級至三十萬級），如電子元器件存儲區(qū)、一般實驗室。場景：對彈性、耐低溫有要求的區(qū)域，不適用于高荷載或強溶劑接觸區(qū)。
四、活動地板
具體做法：支架安裝：按設計標高安裝鋼制支架（間距 600×600mm），調整水平度（誤差≤2mm）。橫梁鋪設：將鋁合金或鋼制橫梁固定于支架上，形成支撐框架。面板安裝：鋪設防靜電活動地板（如全鋼防靜電地板、鋁質復合地板），板塊間留 2-3mm 縫隙，便于拆卸。接地連接：通過支架接地端子連接接地系統(tǒng)，確保整體接地電阻≤10Ω。
特點：優(yōu)點：靈活可調：方便管線鋪設（如電力、氣體管道），設備檢修時可快速拆卸面板。防靜電：表面電阻 10?-101?Ω，滿足半導體生產(chǎn)防靜電要求。承重能力強：均布荷載≥15kN/㎡，適用于重型設備區(qū)域。缺點：造價高：支架與面板成本較高，且需預留架空空間（通常高度 300-600mm）。易積塵：架空層需定期清潔，避免灰塵堆積影響潔凈度。適用性：潔凈等級：ISO 3-7 級（一級至萬級），廣泛用于半導體光刻機區(qū)域、設備密集的核心生產(chǎn)區(qū)。場景：需頻繁檢修管線或安裝精密設備的區(qū)域，如晶圓傳輸通道、微環(huán)境潔凈區(qū)。
五、金屬格柵通風底板
具體做法：結構設計：采用鋁合金或不銹鋼格柵板（開孔率 20%-30%），孔徑 5-10mm，避免大顆粒掉落。支架安裝：與活動地板支架結合，標高與潔凈區(qū)地面一致，格柵板與支架焊接或螺栓固定。通風設計：配合垂直單向流潔凈室，底部設回風靜壓箱，風速控制在 0.3-0.5m/s（ISO 5 級要求）。
特點：優(yōu)點：通風高效：作為垂直單向流潔凈室的回風口，確保氣流均勻，減少渦流（符合 ISO 14644 氣流流型要求）。耐腐蝕性：不銹鋼材質可抵抗潮濕及輕微腐蝕，適用于高濕度潔凈區(qū)。易清潔：格柵間隙便于擦拭，可拆除清洗。缺點：承重有限：均布荷載≤10kN/㎡，不適用于重型設備直接放置。噪聲問題：高速氣流通過時可能產(chǎn)生渦流噪聲，需配合消聲設計。適用性：潔凈等級：ISO 1-5 級（一級至百級），專門用于垂直單向流潔凈室（如晶圓光刻、離子注入?yún)^(qū)）。場景：需嚴格控制氣流流型的高潔凈區(qū)域，作為回風系統(tǒng)關鍵部件。
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